Produktoj

Ni studis nitrogen-dopitan nanokarbonan filmelektrodon kun nitrogena koncentriĝo de pli malalta ol 10,9 je% formita de la malekvilibra magnetrono (UBM) sputtering metodo.La sp(3) enhavo en la nitrogen-dopita UBM-ŝpruciga nanokarbona filmo (N-UBM-filmo) iomete pliiĝas kun kreskanta nitrogenkoncentriĝo.La nitrogen-enhava grafit-simila ligo malpliiĝas kaj piridin-simila ligado pliiĝas kun kreskanta nitrogenkoncentriĝo.La N-UBM-filmo havas tre glatan surfacon kun meza malglateco de 0,1 ĝis 0,3 nm, kiu estas preskaŭ sendependa de nitrogenkoncentriĝo.La N-UBM-filmelektrodo montras pli larĝan eblan fenestron (4.1 V) ol pur-UBM-filmelektrodo (3.9 V) pro ĝia iometa pliiĝo en la sp (3) enhavo.La elektrokataliza agado pliiĝis kun kreskanta nitrogenkoncentriĝo, sugestante ke la elektroaktiveco estas maksimuma kiam la nitrogenkoncentriĝo estas proksimume 10.9 je%, kio estas konfirmita per la pintdisiĝo de Fe (CN) 6 (4-).La reduktopotencialoj de hidrogena peroksido (H2O2) ĉe la N-UBM-filmelektrodo ŝanĝiĝis proksimume 0.1 V, kaj la pintfluo de H2O2 pliiĝis proksimume 4 fojojn.